220VAC50/60Hz,单相
2000W(包括泵)
溅射电源
安装有两个溅射电源
直流（DC）电源：500W，针对于制作金属膜
射频（RF）电源：600W，可制作氧化物和金属膜
同时可选配300W的射频电源
磁控溅射头
仪器中安装有2个磁控溅射头，而且都带有水冷夹层，可通入冷却水对靶材降温
其中一个溅射头与射频电源相连接，主要是溅射绝缘性靶材
另一个溅射头与直流电源相连接，主要溅射导电性靶材
靶材尺寸要求：金属靶：直径为50mm,zui大厚度1.5mm
陶瓷靶：直径为50mm,zui大厚度6mm
仪器中标配一个不锈钢靶和氧化铝陶瓷靶
溅射头所需冷却水：流速10ml/min（仪器中配有一台流速为16ml/min的循环水冷机）
也可以根据自己的要求选择2个射频溅射头或3个射频溅射头，订购前需于本公司销售人员
真空腔体
真空腔体：300mmDiax300mmh，采用不锈钢制作
观察窗口：100mmdiameter
腔体打开方式采用上顶开，使得换靶更加容易
载样台
载样台尺寸：140mmdia.（zui大可放置4"的基底）
载样台可以旋转，其速度为：1-20rpm（可调）
载样台zui高可加热温度为500℃，控温精度为+/-1.0°C
气体流量控制器
仪器内部安装有2个质量流量计
量程为：0-200sccm
气体流量设置可以在6英寸的触摸屏上进行操作
本产品信息由中美合资合肥科晶材料技术有限公司整理发布，更多关于双靶磁控溅射仪的信息请访问：
http://www.kjmti.com.cn/SonList-1290255.html
https://www.chem17.com/st152911/product_24006809.html
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