伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 技术参数:
|
型号 |
RFICP140 |
|
Discharge |
RFICP 射频 |
|
离子束流 |
>600 mA |
|
离子动能 |
100-1200 V |
|
栅极直径 |
14 cm Φ |
|
离子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
|
流量 |
5-30 sccm |
|
通气 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
|
典型压力 |
< 0.5m Torr |
|
长度 |
24.6 cm |
|
直径 |
24.6 cm |
|
中和器 |
LFN 2000 |
试验结论:
相同的沉积时间内, BCx 薄膜的厚度随石墨靶电流的增加逐渐增大, 硬度、弹性模量逐渐降低,微观形貌的柱状结构特征越来越明显;增加石墨靶电流可以提高BCx薄膜的摩擦学性能, 当石墨靶电流为 2.4A 时, BCx 薄膜的摩擦因数稳定在 0.2 左右, 且具有最佳的耐磨性能。
KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的.
KRI 离子源是领域公认的领导者, 已获得许多专利. KRI 离子源已应用于许多已成为行业标准的过程中.
若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 罗先生 台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw
伯东版权所有, 翻拷必究!